痕量分析型超純水系統

產品簡介

Glimmer痕量分析型超純水系統是一款以自來水或廠務水為進水水源的超純水系統，專為痕量與超痕量元素分析檢測設計。系統集成預處理、雙級反滲透、雙波長紫外光氧化、雙超純化柱及微濾等工藝，確保出水水質穩定。其核心技術UTA（超痕量保障技術）通過低溶出材料及雙柱+中間水質傳感器設計，有效降低二次污染風險。

產品型號：Glimmer

更新時間：2026-05-22

廠商性質：代理商

訪問量：192

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產品分類Product Categories

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Glimmer痕量分析型超純水系統產品特點

低溶出材料：整機流路采用高純度惰性材料，減少背景污染。

雙柱+中間水質傳感器：避免取用到不合格水，保障水質穩定。

袋式存儲技術：結合開放式與壓力式儲水優點，避免空氣污染。

耗材芯片管理：自動識別與追溯耗材，引導更換，維護直觀。

物聯網云平臺：支持手機端遠程查看水質、耗材壽命及運行狀態。

TOC實時在線監測：可連續監測總有機碳，確保有機物控制效果。

Glimmer痕量分析型超純水系統產品應用

半導體晶圓制造及封裝檢測

電子特氣、濕電子化學品行業痕量雜質分析

ICP-MS、痕量IC檢測

第三方檢測實驗室超純水需求

高校及科研機構痕量分析實驗

Glimmer痕量分析型超純水系統產品參數

項目	參數
進水水源	市政自來水，5-40℃，壓力1-6 bar
產水流量	20 L/H（雙級反滲透，自動恒產量控制）
產水電阻率	18.2 MΩ·cm
TOC	<3 ppb（具備實時在線監測）
金屬元素BEC	多元素<0.1 ppt（詳見檢測報告）
取水流速	≤2 L/min
電源	100-240V，50Hz，120W
外形尺寸（預處理+水箱一體單元）	W339×D410×H904 mm
外形尺寸（主機）	W374×D508×H538 mm
重量（預處理+水箱一體單元/主機）	15 kg / 24 kg
項目	參數

Glimmer痕量分析型超純水系統產品參數

型號：Glimmer

產地：中國大陸

進水要求：市政自來水，1-6 bar，5-40℃

產水電阻率：18.2 MΩ·cm

TOC：<3 ppb

產水速率：20 L/H

設備功率：120W

主機尺寸：374×508×538 mm

主機重量：24 kg

儲水容積：40L（標配，更大可選）

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